6-butil-1,3-diokso-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-il trifluorometanasulfonat CAS#: 1610827-31-0; ChemWhat Kode: 1499749

IdentifikasiData fisikSpectra
Rute Sintesis (ROS)Keamanan dan Bahayadata lainnya

Identifikasi

Nama Produk6-butyl-1,3-dioxo-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-yl trifluoromethanesulfonate
Nama IUPACTidak ada data yang tersedia
Struktur MolekulerStruktur 6-butil-1,3-diokso-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-il trifluorometanasulfonat CAS 1610827-31-0
Nomor CAS 1610827-31-0
Nomor EINECSTidak ada data yang tersedia
Nomor MDLTidak ada data yang tersedia
Nomor Registri BeilsteinTidak ada data yang tersedia
Sinonim1H-Benz[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione, 6-butyl-2-[[(trifluoromethyl)sulfonyl]oxy]-
6-Butyl-2-{[(trifluormethyl)sulfonyl]oxy}-1H-benzo[de]isochinolin-1,3(2H)-dion
6-Butyl-2-{[(trifluorométhyl)sulfonyl]oxy}-1H-benzo[de]isoquinoléine-1,3(2H)-dione
6-Butyl-2-{[(trifluoromethyl)sulfonyl]oxy}-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione
Formula MolekulerC17H14F3NO5S
Berat molekul401.355
inchiInChI=1S/C17H14F3NO5S/c1-2-3-5-10-8-9-13-14-11(10)6-4-7-12(14)15(22)21(16(13)23)26-27(24,25)17(18,19)20/h4,6-9H,2-3,5H2,1H3
Kunci InChIMCGHKIFMSZAFAV-UHFFFAOYSA-N
Resmi SMILESCCCCc1ccc2c3c(cccc13)C(=O)N(OS(=O)(=O)C(F)(F)F)C2=O
Informasi Paten
ID PatenJudulTanggal penerbitan
CN119661433Generator asam terinduksi cahaya, metode pembuatannya, dan photoresist berbasis generator asam terinduksi cahaya.2025
TW2018 / 33084Komposisi fotosensitif negatif, artikel yang dibuat darinya, dan metode untuk membuat komposisi tersebut menjadi produk jadi.2018
EP2927216PIRROLO [1,2-b] DERIVATIF PIRIDAZIN2015

Data fisik

PenampilanPutih bubuk putih
KelarutanTidak ada data yang tersedia
Titik nyalaTidak ada data yang tersedia
Indeks biasTidak ada data yang tersedia
KepekaanTidak ada data yang tersedia
Titik Leleh, °C Pelarut (Titik Leleh)
110
Suhu (Kelarutan (MCS)), ° CKomentar (Kelarutan (MCS))
251Kelarutan: 20 g/100 g pelarut

Spectra

Deskripsi (Spektroskopi NMR)Inti (Spektroskopi NMR)Pelarut (Spektroskopi NMR)Frekuensi (Spektroskopi NMR), MHzTeks Asli (Spektroskopi NMR)
Spektrum, Pergeseran kimia1Hkloroform-d1300
Pergeseran kimiawi1H[D3] asetonitril758.65-8.58(m,2H), 8.52(d,1H,J=7.3 Hz), 7.86(dd,1H,J=7,3,7.3 Hz), 7.71(d,1H,J=7.9 Hz),3.21(t,2H,J=7.9 Hz), 1.76-1.68(m,2H), 1.51-1.40(m,2H), 0.96(t,3H,J=7.3 Hz).
Deskripsi (Spektroskopi IR)Teks Asli (Spektroskopi IR)
Band2969, 2938, 2883, 1716, 1579, 1434, 1397, 1321, 1228, 1174, 1130, 953, 853
Deskripsi (Spektroskopi UV / VIS)Absorpsi Maxima (UV / VIS), nmExt./Abs. Koefisien, l · mol-1cm-1
Absorpsi maksimal34616500
Absorpsi maksimal36511600

Rute Sintesis (ROS)

Rute Sintesis (ROS) dari 6-butil-1,3-diokso-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-il trifluorometanasulfonat CAS# 1610827-31-0
Rute Sintesis (ROS) dari 6-butil-1,3-diokso-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-il trifluorometanasulfonat CAS# 1610827-31-0
KondisiMenghasilkan
Dengan piridin Dalam diklorometana pada 0 – 20℃; selama 1 jam;89.48%
Dengan piridin dalam kloroform pada suhu 2 – 20℃; selama 1 jam;3.06 gram

Keamanan dan Bahaya

Pernyataan Bahaya GHSTidak Diklasifikasikan

data lainnya

TransportasiNONH untuk semua moda transportasi
Di bawah suhu ruangan dan jauh dari cahaya
Kode HS
StorageDi bawah suhu ruangan dan jauh dari cahaya
Shelf Life2 tahun
Harga pasarUSD
Keserupaan obat
Komponen aturan Lipinski
Berat molekul401.363
logP4.44
HBA4
HBD0
Mencocokkan Aturan Lipinski4
Komponen aturan Veber
Area Permukaan Kutub (PSA)89.13
Bond yang Dapat Diputar (RotB)6
Mencocokkan Aturan Veber2
Gunakan Pola
Generator Fotoasam (PAG) dalam Litografi Semikonduktor
Penggunaan utama CAS 85342-62-7 adalah sebagai generator fotoasam non-ionik (PAG) yang digunakan dalam fotoresist yang diperkuat secara kimia. Setelah terpapar radiasi UV, DUV, atau sinar elektron, ia menghasilkan asam kuat yang mendorong reaksi kimia resist yang dibutuhkan untuk pembentukan pola.
Sistem Photoresist Tingkat Lanjut
Mikroelektronika & Nanofabrikasi
Kimia Polimer yang Diinduksi UV / Radiasi
digunakan sebagai fotoinisiator kationik, yang memungkinkan:
Reaksi polimerisasi kationik
Pelapis dan resin yang dapat disembuhkan dengan sinar UV (dalam formulasi penelitian/lanjutan)
Sistem modifikasi permukaan polimer

Beli Reagen

Tidak ada pemasok reagen? Kirim pertanyaan cepat ke ChemWhat
Ingin terdaftar di sini sebagai pemasok reagen? (Layanan berbayar) Klik di sini untuk menghubungi ChemWhat

Produsen yang Disetujui

WatsonChem Advanced Chemical Materialshttps://www.watsonchem.com/
Ingin terdaftar sebagai produsen yang disetujui (Memerlukan persetujuan)? Silakan unduh dan isi formulir ini dan kirim kembali ke produsen yang disetujui@chemwhat.com

Pemasok Lainnya

Watson Internasional Limited Mengunjungi Watson Situs Resmi

Hubungi Kami untuk Bantuan Lainnya

Hubungi kami untuk informasi atau layanan lainnya Klik di sini untuk menghubungi ChemWhat